国产芯的一放荡措，首台28nm光刻机即将交付

作为 IC 制造的重要工艺，光刻是个中很是重要的一项操纵，据有关数据表现，光刻在 IC 制造中所占的时刻最长，而光刻机在半导体整体制造装备本钱中占比也高达第一位，约为 27%。

固然 28nm 工艺与当今国际顶尖的 7nm 以致是 5nm 光刻机尚稀有代的隔膜，可是差距已经大大缩小，事实在此之前国产光刻机照旧 90nm。

据悉，上海微电子是海内技能最领先的光刻装备厂商，从低端切入各个细分市场，现已成为封测龙头企业的重要供给商，海内市场占据率高达 80%，环球市场占据率也有 40%，同时旗下 LED/MEMS/ 功率器件光刻机机能指标领先，LED 光刻机市占率第一。

上海微电子现有 4 大系列的光刻机产物，个中 600 系列步进扫描投影光刻机面向 IC 前道制造，回收四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自顺应调焦调平技能，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技能，可用于 90nm、110nm、280nm 工艺和 200mm、300mm 晶圆出产。

我国作为环球芯片斲丧最大的国度之一，每年有大量的芯片都依靠入口，好比 2019 年一年我们入口的芯片就到达 2 万亿人民币以上，在这些芯片傍边既包罗高端的芯片，也包罗了一些中低端芯片。

若是将来我国 28 纳米光刻机正式投产了，那么我国芯片产能将会大幅获得晋升，并且可以或许自主出产的不只仅是 28 纳米的芯片，尚有也许包罗更高工艺的芯片。

光刻机

所谓光刻，就是行使光在硅上印刷细小的电路图案，从而批量出产种种集成电路芯片。光刻体系本质上是投影体系，把计划师计划的芯片图案缩小之后刻在半导体原料上，颠末伟大的加工处理赏罚，就获得了各类成果的芯片。

行使的光波长越小，制造芯片的工艺制程越高。光刻技能经验了紫外全谱(300～450nm)、 G 线(436nm)、 I 线 (365nm)、深紫外(DUV，包罗 248nm 和 193nm)和极紫外(EUV，13.5nm)六个阶段。按照所行使的光的波长差异，可以将光刻机分为差异的种类。

我国可以或许从 90 纳米光刻机直接打破到 28 纳米，这是一个很是明明的前进，我信托凭证今朝我国对芯片的投入以及各大企业对芯片的重视水平，将来我国光刻机研究必定会取得更大的前进。

（编辑：河北网）

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