奔腾式打破！第一台28nm国产光刻机交付在即

据媒体报道，上海微电子设备(团体)股份有限公司披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的陶醉式光刻机。

固然这与当今国际顶尖的7nm以致是5nm光刻机尚稀有代的隔膜，可是差距已经大大缩小，事实在此之前国产光刻机照旧90nm。

据悉，上海微电子是海内技能最领先的光刻装备厂商，从低端切入各个细分市场，现已成为封测龙头企业的重要供给商，海内市场占据率高达80%，环球市场占据率也有40%，同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机机能指标领先，LED光刻机市占率第一。

上海微电子现有4大系列的光刻机产物，个中600系列步进扫描投影光刻机面向IC前道制造，回收四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自顺应调焦调平技能，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技能，可用于90nm、110nm、280nm工艺和200mm、300mm晶圆出产。

500系列面向IC后道先辈封装，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。

【来历: 快科技】

（编辑：河北网）

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