中微5纳米等离子体刻蚀机很棒 但造芯片只是"配角"

（原问题：国产刻蚀机很棒，但造芯片只是“副角”）

中微5纳米等离子体刻蚀机又被网媒“戴高帽”，专家指出——

国产刻蚀机很棒，但造芯片只是“副角”

本报记者 高 博

迩来有收集媒体称，“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，机能精良，将用于环球首条5纳米芯片制程出产线”，并评述说“中国芯片出产技能终于打破西欧封闭，第一次霸占天下制高点”“中国弯道超车”等等。

中微公司的刻蚀机简直程度一流，但强调叙述其计谋意义，则被相干专家阻挡。刻蚀只是芯片制造多个环节之一。刻蚀机也不是对华禁售的装备，在这个意义上不算“卡脖子”。

起首，生手轻易夹杂“光刻机”和“刻蚀机”。光刻机相等于画匠，刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张风雅的电路图（就像摄影机让胶卷感光），，后者按这张图去刻线（就像刻印章一样，腐化和去除不必要的部门）。

光刻机是芯片制造顶用到的最金贵的呆板，要到达5纳米曝光精度难比登天，ASML公司一家通吃高端光刻机；而刻蚀机没那么难，中微的竞争敌手尚有应用原料、泛林、东京电子等等，海外巨头体量上风明明。

“中微的等离子刻蚀机这几年前进确实不小，”科技日报记者采访的一位从事离子刻蚀的专家说，“但此刻的刻蚀机精度已远超光刻机的曝光精度；芯片制程上，刻蚀精度已不再是最大的困难，更难的是担保在大面积晶圆上的刻蚀同等性。”

该专家表明说，难在怎样让电场能量和刻蚀气体都匀称地漫衍在被刻蚀基体外貌上，以担保等离子中的有用基元，在晶片外貌的每一个位置实现沟通的刻蚀结果，为此必要综合原料学、流体力学、电磁学和真空等离子体学的常识。

该专家说：“刻蚀机更公道的布局计划和原料选择，可担保电场的匀称漫衍。刻蚀气体的馈入方法也是要害之一。据我所知，中微尹志尧博士的团队在气体喷淋盘上下过不少的工夫。其它包罗功率电源、真空体系、刻蚀温度节制等，都影响刻蚀功效。”

其它，该专家也指出，刻蚀机技能范例许多，中微和他们的技能道理就有很大区别，至于更具体的技能细节，是每个厂家的焦点机要。

趁便一提：刻蚀分湿法（古代人就分明用强酸去刻蚀金属，当代工艺用氟化氢刻蚀二氧化硅）和干法（如用真空中的氩等离子体去加工硅片）。“湿法呈现较早，一样平常用在低端产物上。干法一样平常是能量束刻蚀，离子束、电子束、激光束等等，精度高，无污染残留，芯片制造用的就是等离子刻蚀。”该专家称。

上述专祖传颂说，尹博士以及中微的焦点技能团队，根基都是从国际知名半导体装备大厂出来的，尹博士原本就在海外得到了诸多的技能成绩。中微不绝进步改造，慢慢在芯半晌蚀机规模保持了与海外险些同步的技能程度。

在IC业界事变多年的电子工程师张荣耀汇报科技日报记者：“一两年前网上就有中微研制5纳米刻蚀机的报道。假如能在台积电应用，简直声名中微到达天下领先程度。但说中国芯片‘弯道超车’就是过甚其辞了。”

“硅片从计划到制造到封测，流程伟大。刻蚀是制造环节的工序之一，尚有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、掺杂、测试等等，都必要伟大的技能。中国在大部门工序上落伍。”张荣耀说，“并且，中微只是给台积电这样的制造企业提供装备，产值比台积电差几个数目级。”

科技日报记者发明，2017年开始收集上常常热炒“5纳米刻蚀机”，而中微公司频频抗议媒体给他们“戴高帽”。

“不要老把财富的成长进步到政治高度，更不要让一些消息人和媒体搞吸引眼球的不实报导。”尹志尧2018年暗示，“对我和中微的强调宣传搞得我们很被动……过一些时辰，又洗面革心登出来，其实让我们头痛。”

本文来历：科技日报社-中国科技网 责任编辑：姚立伟_NT6056

（编辑：河北网）

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