三星首次将EUV应用于DRAM

三星电子已经乐成地应用了极度紫外线(E UV)工艺在其DRAM出产，该公司已经公布。 它还输送了100万个10n m级DDR4D RAM模块，这些模块是行使EUV进程建造的，也获得了客户的评估。
 

这家韩国科技巨头暗示，跟着这些评估的完成，它为来岁大局限出产新的DRAM模块铺平了阶梯。

三星在其平泰克工场的EUV专用V2出产线将于下半年开始出产DRAM模块。 该线估量将发生第四代10nm级DDR5和LPDDR5。
 

这是除了7nm级逻辑芯片，也行使EUV工艺，已经在平泰克工场出产。 通过行使EUV，该公司增补说，这将使其单个12英寸晶片的制造出产率翻一番。

欧维工艺行使短波长的紫外光在晶片上绘制计划图案。 与早年行使氟化氩激光的光刻技能对比，这应承更具体和更风雅的计划。
 

环球半导体制造商，如三星、英特尔和台积电，都有望扩大EUV在芯片出产中的应用，三星此前暗示，它打算行使EUV工艺将逻辑芯片缩小到3nm。

在上周的股东大会上，该公司的联席首席执行官兼副董事长金基南(KimKi-nam)暗示，他估量，在客岁内存市场低迷之后，跟着数据中心的需求，这一市场将不变下来。

（编辑：河北网）

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