台积电：5nm来岁量产 2nm已进入先导筹划

在克日的台积电33周年庆典上，董事长、联席CEO刘德音谈到了台积电的先辈工艺筹划，最先辈的2nm工艺也进入了先导筹划中，来岁则会量产5nm工艺。

刘德音夸大，台积电先辈制程7nm在台中晶圆十五厂运作近两年，从试产到大量出产写下环球记载，也创造产出高出一百万片12吋晶圆的环球创举，并初次以极紫外光（EUV）应用的7nm强化版制程技能，本年六月开始大量出产，有很好良率示意。台积电最新的5nm制程已筹备停当，已往一年多，在竹科晶圆十二厂和台南晶圆十八厂，投注大量时刻和心力，来岁可望接续7nm脚步，可望缔造又一个半导体技能里程碑。

按照台积电之前的筹划，2nm工艺是一个重要节点，Metal Track ( 金属单位高度 ) 和3nm一样维持在5x，同时Gate Pitch ( 晶体管栅极间距 ) 缩小到30nm，Metal Pitch ( 金属间距 ) 缩小到20nm，对比于3nm都小了 23％。

估量2nm工艺将在2024年完成，正式进入量产阶段，不外详细环境此刻还不得而知。

（编辑：河北网）

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